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Theris 超高真空奈米粒組沉積PVD設備

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Theris TAS-RF原子源超高真空奈米粒組沉積模組

無離子的氧化物和氮化物沉積

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Theris NANOSTREAM 超高真空奈米粒組沉積模組

這個NanoStream源範圍使用改良的直流濺射源來從金屬靶材（如銅盤）產生蒸氣。通過精心控制源頭的壓力、等離子體溫度和氣體混合物的流量，蒸氣會凝結成納米粒子，就像雲中的水滴形成一...
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電漿處理代工服務

元鋒精密提供 <電漿表面處理> 代工服務，可進行表面清潔、改質、活化、鍍膜等製程。
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XVA-160αⅡ”Z” 高解析度3D X-ray CT (斷層掃描)

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FS-4 經濟型波段橢偏儀-膜厚量測

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FS-RT300 12吋自動mapping多波段橢偏儀

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FS-8 高精度八波段橢偏儀-膜厚量測

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Intlvac 12吋離子束蝕刻設備-Nanoquest III/IV 高準直性...

Intlvac Nanoquest III/IV 離子束蝕刻設計用於蝕刻直徑300毫米及以下的基板。它配備了射頻寬束離子源，可對任何材料進行乾式等離子蝕刻。它可以配置為單晶片旋轉或...
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Intlvac 8吋離子束蝕刻設備-Nanoquest II 高準直性

Intlvac Nanoquest II 設計用於蝕刻直徑150毫米及以下的基板。它是一款堅固的工具，旨在適應生產操作的無塵室製造。因此，真空硬件、工藝規格、設計佈局和自動化方案均...
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Intlvac 6吋離子束蝕刻設備-Nanoquest I 高準直性

Intlvac Nanoquest I 設計用於蝕刻直徑100毫米及以下的基板。它是一款緊湊可靠的工具，為納米製造無塵室帶來了多功能的材料加工能力。它配備了最先進的硬件，包括射頻網...
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Intlvac 3吋離子束蝕刻設備- Nanoquest PICO 高準直性

Intlvac Nanoquest Pico設計用於蝕刻直徑75毫米及以下的基板。它配備了一個寬束離子源，可對任何材料進行各向異性等離子蝕刻。它的設計旨在滿足研究/開發和小型無塵室...
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