大面積產品的薄膜分層和超高速、超精確的形狀測量 nXI-2採用干涉技術，這是一種用於校準精密測量設備並在大面積進行精確測量的技術。儘管生成了大量數據，nXI-2的測量速度比傳統的干涉法快十倍，並提供可靠的數據，從而提供各種信息以提高工藝效率和生產質量。由於它可以快速測量大面積，nXI-2非常適合大規模生產線，其先進的測量技術確保了測量的高可靠性。
nXI-2可以測量步進、厚度和粗糙度，因此可用於測量微米或更小的小區域，例如半導體的微結構、凸點和粗糙度，以及顯示屏中的柱形間隔物、表面結構和外部異物的突起等。此外，它還可以分離薄膜，因此在測量具有多層結構的產品方面表現優異。nXI-2的測量範圍可達到FOV 33mm×22mm，因此可用於測量各種產品。