Picosun ALD原子層薄膜沉積
Sprinter
詳細介紹

PICOSUN® Sprinter 

PICOSUN® Sprinter ALD系統旨在顛覆半導體(例如新興記憶體、電晶體、電容器)、顯示和物聯網元件產業中300毫米製造線上的批量ALD生產。在Sprinter中,屏障、高介電氧化物和其他薄膜以完美的ALD方式在大規模生產中沉積。

完全自動化的、符合SEMI S2/S8認證的PICOSUN® Sprinter將領先的單晶片薄膜質量和均勻性與快速處理、高通量和毫不妥協的可靠性結合在一起。

 

 

技術特徵
  • 典型基板尺寸和類型
    用於高通量ALD的300毫米晶圓批量處理
    可實現雙面塗層
    高纵横比樣本
  • 典型製程
    Al2O3,SiO2,TiO2和其他金屬氧化物和氮化物
  • 製程溫度和能力
    高達400°C
    每小時處理100多片晶圓,10納米Al2O3厚度
  • 基板裝載
    完全自動載入,配合真空叢集工具和垂直翻轉功能 通過Picosun NectoTM 200真空叢集系統進行卡式批量載入 可選的SMIF站點
PicoOS™ - 操作系統/工藝控制軟體主要特點 Picosun自有的、符合SEMI標準的調度器 一個共同的界面來控制整個叢集 每20毫秒記錄一次數據 趨勢數據可以導出 不同用戶級別的訪問權限 基於EtherCAT的MFC和MFM通信 增強的恢復功能 整個叢集的共同事件記錄 自由配置且可擴展的配方編輯器(沒有固定的步驟和循環數) 在系統運行期間可以隨時編輯/創建配方
  • 前驅物
    液體,固體,氣體,臭氧
    前驅體容器可用水平感測器
    連續分配器作為選項可提供助燃前驅體(最多可提供4個工具)

     
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