PICOSUN™ P-300 S
PICOSUN™ P-300 ALD系統的出現重新定義了ALD高產量製造標準。我們將經專利註冊的熱腔壁設計與完全獨立的前驅物管線結合，可高產量製造出低微粒、電學和光學性能優越的頂級ALD薄膜。設計靈活，維護輕鬆、快捷 使得該系統成為市場上停運時間最短、運作成本最低的ALD系統。另外，我們具備擴散增強專利技術Picoflow™能通過各種製程驗證，在超高深寬比基體表面製造出高度適形塗層。
PICOSUN™ P-300S ALD系統代表了工業化ALD尖端工藝水準，結合標準真空集群平臺，用於全自動化批量加工單片。經SEMI S2/S8認證的P-300S ALD系統可通過SECS/GEM選配整合到工廠自動化設備中。此類系統可達成最嚴格的半導體行業清潔度要求。
綜上所述PICOSUN™ P-300S ALD系統是創新型IC行業的首選。
技術特徵
- 典型基板尺寸和類型
300 mm（最大）單片，高深寬比（最高達1:2500）樣件 - 製程溫度和能力
50到500°C - 典型製程
週期時間低至幾秒*的有效單片製程Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、 ZrO2、AlNTiN和各種金屬同一批中，非均勻性低至1% 1σ以下（Al2O3， WIW，WTW B2B，49 pts，5mm EE）** - 基板裝載
磁性機械臂的裝載鎖定室，可通過Picoplatform™ 200或Picoplatform™ 300真空集群系統自動裝載，可通過集群系統進行盒對盒式裝載和FOUP裝載，N2櫃裝載。 - 前驅物
液態、固態、氣態、臭氧和電漿，前驅物餘量感測器，提供清洗和填裝前驅物服務，6根獨立前驅物管線，最多可載入12個前驅物。
