UniTemp 高真空熱製程
RTP-100-EP 真空爐
詳細介紹

RTP-100-EP 前置式 高真空適用的快速熱處理爐，具有高達200 K/sec的升溫速率。

產品特色：

  • 良好的溫度均勻性
  • 精確控制的升溫速率和快速降溫速率
  • 低處理週轉時間
  • 舒適的氣體控制
  • 桌面系統，佔用空間小
多用途的桌面單元，帶有前置式抽屜，適用於以下應用：
  • 各種半導體工藝的優良工具
  • 新半導體工藝的實施
  • 原型研究
  • 品質控制
  • 退火
  • 快速熱處理
  • 退火
  • SiAu、SiAl、SiMo合金化
  • 低介電常數材料
  • 離子注入後的退火
  • 銅漿燒結
  • 電阻漿料燒結
  • 其他需求的工藝

技術數據：

  • 單晶片直徑最大可達100毫米（4英寸）
  • 處理腔體由石英玻璃製成
  • 帶有集成進氣和排氣的氣體進出口
  • 1質量流量控制器，5 NLM（=每分鐘標準升）的標準
  • 由9盞14 kW的頂部和底部紅外加熱管加熱
  • 頂部和底部加熱
  • 可真空，可連接外部泵系統，真空度高達10E-3 hPa
  • SPS工藝控制器，帶有50個程序，每個程序最多50個步驟（以太網接口），SIMATIC
  • 7英寸觸摸屏，便於編程和工藝控制
  • 最高溫度1200°C
  • 溫度控制：熱電偶
  • 冷卻方式：水冷式
  • 電源：230V/3N/32A
  • 材積：504 x 521 x 576 毫米（寬 x 深 x 高）
  • 重量：60 公斤
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