Henniker Plasma 低損電漿表面處理
噴炬型 Cirrus & Nimbus 大氣電漿表面處理設備
詳細介紹

Cirrus & Nimbus大氣電漿處理系統

僅需乾燥壓縮空氣)CDA)即可連續產生電漿以進行表面處理,並可結合自動化產線,透過產線信號進行圖形化路徑。此系列經常應用於各式表面材質的局部附著力改善,使其更容易粘合和上漆。

產品特色

  • 黏著前進行快速局部電漿處理
  • 適用於多種材料:聚合物、玻璃、陶瓷、金屬、複合材料等。
  • 局部處理,對大部件的小區域進行電漿處理。
  • 能與自動化產線結合,可結合產線設備或多軸機器手臂上 。
  • Cirrus為單噴頭、Nimbus為雙噴頭

產品規格
 

Cirrus & Nimbus

控制器

尺寸/重量

(XX)

504518公分

10公斤

電漿噴嘴

材質

3公尺蛇管(連結於控制器後方)

尺寸/重量

(直徑x)

3.221公分

0.5公斤

電漿作用範圍(直徑)

Mode噴頭:1~1.2公分 

選配

Finite噴頭:約0.8~1公分

電源供應

瓦數/頻率

300W/40kHz

程序控制

介面

前面板:軟體 

後面板:Sub-D連結器

輸出:開關系統、HV開關

輸入:遙控互鎖、電漿開關

其他

電力

110-250 AC50-60Hz
450伏安(含泵)、熔絲6.3

氣體

壓縮氣體:乾燥、無油、5-8帕、
壓縮空氣進氣管路管徑6mm

認證

CEROHSWEEE