Theris 超高真空奈米粒組沉積模組
Theris NANOSTREAM 超高真空奈米粒組沉積模組
這個NanoStream源範圍使用改良的直流濺射源來從金屬靶材(如銅盤)產生蒸氣。通過精心控制源頭的壓力、等離子體溫度和氣體混合物的流量,蒸氣會凝結成納米粒子,就像雲中的水...
詳細介紹

奈米粒子應用

奈米粒子生成的獨特方法使得純的、尺寸選擇的奈米粒子薄膜能夠被沉積,這樣的方法適用於一系列使用化學合成或自組裝奈米粒子無法實現的應用。利用加速度來調節薄膜密度的額外特性增加了對薄膜的控制層次,進一步擴展了應用的範圍。

  • 合金奈米粒子
  • 高熵合金
  • 核殼粒子
  • 超純、尺寸選擇的粒子
  • 緊密的奈米多孔薄膜

 

高效率光伏薄膜

電池儲存

氣體液體感測

催化劑研究

醫療設備

用於選擇性氣體或液體滲透的
奈米多孔薄膜

蒸氣奈米粒子生成源
NanoStream S 

技術操作

NanoStreamS源使用改良的直流濺鍍源從金屬目標(如銅盤)產生蒸氣。通過仔細管理源的出口壓力、等離子體溫度和氣體混合物的流量,蒸氣冷凝成納米粒子,就像雲中形成雨滴一樣。當納米粒子從源中出來時,它們的生長會突然停止,形成一束粒子,其尺寸分佈非常明確,FWHM(全寬半最大)為+/- 20%,可以使用專門設計用於非常高質量的內聯質量過濾器進一步精煉。

靈活性

這些粒子主要是離子化的(帶負電),這使得它們可以被靜電操作。這一特性使用戶可以通過改變粒子的衝擊能量來進一步修改所得薄膜的性質,這是一個額外的參數。在低能量(無加速)下,粒子軟著陸,保持其自然形狀。在較小的加速度下,粒子在衝擊時與彼此和涂層表面結合,但仍然在很大程度上保持其形狀,從而形成高度多孔但穩定的層。增加加速度後,薄膜逐漸變得更加密集,直到在非常高的能量下,粒子變形並混合到如此程度,形成具有極好粘附性的大塊層。這使儀器與您的應用要求相符,極具靈活性。

 

 

 

 

 

 

NANOSTREAM T: 3-head source
NANOSTREAM V: 5-head source
NanoStreamT和NanoStreamV的操作方式與NanoStreamS相同,但使用內部溅射源,具有三個(T)或五個(V)獨立靶材,使用戶能夠形成化合物和高熵納米粒子。通過改變應用於靶材的相應功率,可以調整納米粒子的組成,從而探索合金、化合物和高熵納米粒子的性質。 
 

Mass Filter (MSF)

MSF四極質量濾波器可與NanoStream源頭相配合,用於分析和進一步過濾納米粒子束。其質量範圍從2到6 amu擴展至10 amu,具有2%尺寸分辨率,在過濾模式下,可實現精確的粒子尺寸定義。它標配軟件控制,可從基於Windows的PC進行分析。MSF還可選配束集中和導向電極,以瞄準基板的特定區域,或者掃描大面積塗層的光束。