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Intlvac Nanoquest Pico 是終極緊湊型離子研磨平台，用於資料儲存、自旋電子學和半導體等薄膜應用的研究和開發。 它可以根據您的應用配置多種離子源和氣體。 憑藉其 14 英寸 D 形腔室和較小的佔地面積，它可以適合任何實驗室。
Intlvac Nanoquest Pico 設計用於蝕刻小型晶圓和晶片，非常適合快速蝕刻對傳統化學或乾蝕刻製程反應不佳的薄膜。
優勢
● 體積小
● 主動冷卻載台
● 基板旋轉和傾斜
● 快速抽真空
● 多種配置選項
Intlvac 離子束蝕刻
Intlvac 3吋離子束蝕刻設備- Nanoquest PICO 高準直性
Intlvac Nanoquest Pico設計用於蝕刻直徑75毫米及以下的基板。它配備了一個寬束離子源，可對任何材料進行各向異性等離子蝕刻。它的設計旨在滿足研究/開發和小...
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