PICOSUN™ R-200 STD
PICOSUN™ R-200標準ALD系統是全球市場上熱反應原子層沉積(ALD)研究工具的引領者。它已成為創新型公司和研究機構的首選。該系統設計靈活，確保沉積ALD薄膜的高品質，同時超級靈活的系統組態配置能滿足未來各種需求和應用。經專利註冊的熱腔壁設計、完全獨立的前驅物管線和顯示使得無顆粒沉積廣泛應用於晶片、3D物件和所有奈米尺度的材料。即使在最具挑戰性的多孔材料 超高深寬比和奈米顆粒表面沉積，系統都能實現極好的均勻性，這些都歸功於我們的專利技術Picoflow™。該系統配備功能強大和易於更換的液態、氣態和固態前驅物。系統可整合手套箱、粉末反應腔和各種即時分析系統，讓您的研究變得高效靈活，取得良好成果，不論您的研究領域是什麼,或未來產生何種變化！
技術特徵
- 典型基板尺寸和類型
50到200 mm單片，156 mm x 156 mm太陽能矽晶片，3D物件，粉末和顆粒小批量，多孔、穿孔和高深寬比（最高達1:2500）基板 - 製程溫度
50到500°C - 典型製程
Al2O3、TiO2、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、ZrO2、TiN、AlN及Pt或Ir等金屬。 - 基板裝載
用氣動升降機手動裝載，帶磁機械臂的裝載鎖定室 - 前驅物
液態、固態、氣態和臭氧，4根獨立前驅物管線，最多可載入6個前驅物。 - 選配
Picoflow™擴散增強器、RGA、N2產生器、尾氣處理器、定製設計及手套箱，相容（用於惰性氣體裝載）。
