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新元鋒精密股份有限公司
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Intlvac 12吋離子束蝕刻設備-Nanoquest III/IV 高準直性...
Intlvac Nanoquest III/IV 離子束蝕刻設計用於蝕刻直徑300毫米及以下的基板。它配備了射頻寬束離子源,可對任何材料進行乾式等離子蝕刻。它可以配置為單晶片旋轉或...
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Intlvac 12吋離子束蝕刻設備-Nanoquest III/IV 高準直性...
Intlvac 8吋離子束蝕刻設備-Nanoquest II 高準直性
Intlvac Nanoquest II 設計用於蝕刻直徑150毫米及以下的基板。它是一款堅固的工具,旨在適應生產操作的無塵室製造。因此,真空硬件、工藝規格、設計佈局和自動化方案均...
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Intlvac 8吋離子束蝕刻設備-Nanoquest II 高準直性
Intlvac 6吋離子束蝕刻設備-Nanoquest I 高準直性
Intlvac Nanoquest I 設計用於蝕刻直徑100毫米及以下的基板。它是一款緊湊可靠的工具,為納米製造無塵室帶來了多功能的材料加工能力。它配備了最先進的硬件,包括射頻網...
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Intlvac 6吋離子束蝕刻設備-Nanoquest I 高準直性
Intlvac 3吋離子束蝕刻設備- Nanoquest PICO 高準直性
Intlvac Nanoquest Pico設計用於蝕刻直徑75毫米及以下的基板。它配備了一個寬束離子源,可對任何材料進行各向異性等離子蝕刻。它的設計旨在滿足研究/開發和小型無塵室...
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Intlvac 3吋離子束蝕刻設備- Nanoquest PICO 高準直性
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