/ 2020-01-31 /

有助於應對氣候變化的ALD技術

具有高性能的鋰離子電池材料

Picosun的原子層沉積（ALD）薄膜阻隔塗層技術為消除使用有害工藝氣體，六氟化硫（SF 6）和三氟化氮（NF 3）提供了解決方案。
在當前的化學氣相沉積（CVD）塗覆方法中，需要生長相對厚的膜以獲得期望的性能水平，以達到例如防潮，防腐蝕，鈍化或絕緣應用中的所需規格。由於塗層設備壁上的薄膜快速堆積，必須定期清潔沉積室中的薄膜殘留物。這通常是通過使用SF 6或NF 3等離子體的腔室清潔工藝完成的。

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