Henniker Plasma

電漿表面蝕刻 Plasma Etching

電漿表面蝕刻是一種用來增加表面micro等級材料區塊的處理方式,讓物件的表面用反應氣體來進行蝕刻。

表面的材料被蝕刻掉,轉化為氣體並由真空系統去除,表面積大大增加,提高了表面性能,使材料易於浸濕。 電漿表面蝕刻於印刷、粘合和噴漆之前進行,特別適用於POM和PTFE這類製程,因這類材料若不使用腐蝕性化學品就無法印刷或黏合。

未處理表面

經電漿蝕刻表面

本影片將簡單說明電漿表面蝕刻如何進行:

蝕刻前

蝕刻過程中

蝕刻後

電漿蝕刻適用於:

• POM、PTFE、FEP、PFA

• 聚四氟乙烯化合物

• 結構化矽

• 光刻膠灰化