我們將使用cookie等資訊來優化您的體驗，繼續瀏覽即表示您同意我們使用。欲瞭解詳細內容，請詳閱
隱私權保護政策
×
新元鋒精密股份有限公司
關於我們
公司簡介
營運據點
最新消息
新聞快訊
展會活動
產品資訊
零組件
Tempus 特殊氣體感測器
PTC 真空表面溫度計
Memetis 超小體積微流道控制閥 / 微流道控制模組
製程設備
Korvus 3合1多功能模組化PVD
UniTemp 高真空熱製程
Picosun ALD原子層薄膜沉積
Henniker Plasma 低損電漿表面處理
ILSHIN 高壓處理
Intlvac 離子束蝕刻
Theris 超高真空奈米粒組沉積模組
量測設備
Nexensor 2D3D光學表面形貌量測
Film Sense 多波段橢偏儀
UHS 高解析度3D X-ray CT
代工服務
原子層薄膜沉積鍍膜 (ALD) 代工
文章資訊
技術文章
Korvus
Picosun
Film Sense
Memetis
Henniker Plasma
新聞報導
聯絡我們
Home
文章資訊
技術文章
技術文章
2020-01-31
有助於應對氣候變化的ALD技術
Picosun的原子層沉積（ALD）薄膜阻隔塗層技術為消除使用有害工藝氣體，六氟...
有助於應對氣候變化的ALD技術
Picosun
ALD
2020-01-03
具有高性能的鋰離子電池材料
原子層沉積ALD的薄膜技術的全球領導品牌—Picosun，在製造鋰離子薄膜電池材...
具有高性能的鋰離子電池材料
Picosun
ALD
2020-01-02
Picosun的ALD技術使3D集成矽的微型電容器具有空前的...
原子層沉積ALD的薄膜塗層技術解決方案的專家—Picosun，在技術報告中指出，...
Picosun的ALD技術使3D集成矽的微型電容器具有空前的...
Picosun
ALD
1
2
3
第 1 頁
第 2 頁
第 3 頁
TOP
繁體中文
關於我們
公司簡介
營運據點
最新消息
新聞快訊
展會活動
產品資訊
零組件
Tempus 特殊氣體感測器
PTC 真空表面溫度計
Memetis 超小體積微流道控制閥 / 微流道控制模組
製程設備
Korvus 3合1多功能模組化PVD
UniTemp 高真空熱製程
Picosun ALD原子層薄膜沉積
Henniker Plasma 低損電漿表面處理
ILSHIN 高壓處理
Intlvac 離子束蝕刻
Theris 超高真空奈米粒組沉積模組
量測設備
Nexensor 2D3D光學表面形貌量測
Film Sense 多波段橢偏儀
UHS 高解析度3D X-ray CT
代工服務
原子層薄膜沉積鍍膜 (ALD) 代工
文章資訊
技術文章
Korvus
Picosun
Film Sense
Memetis
Henniker Plasma
新聞報導
聯絡我們
